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CoWoP未来有望逐步商用 一文详解PCB工艺及相关材料

2025年08月16日 21:53
来源: 财联社
编辑:东方财富网

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  近期,PCB概念反复活跃,消息面上,AI服务器对PCB产品的性能要求日益提高,进一步推动了HDI市场需求的大幅增长。根据Prismark报告,预计在2024至2029年间,HDI市场的年均复合增长率将达到6.4%,预计到2029年全球市场规模将增至170.37亿美元。同时,人气公司于周五盘后发布了业绩大增的公告。生益电子(688183.SH)公告称,2025年上半年实现营业收入37.69亿元,同比增长91%;净利润5.31亿元,同比增长452%。公司拟每10股派发3元现金红利,合计拟派发现金红利2.47亿元。

  除此之外,PCB行业催化不断。此前,在近期的谷歌第二财季报告会中,公司披露其2025年Q2资本支出达224.46亿美元,环比增长30.5%,同比激增70.2%,为历史新高。其中,约三分之二用于AI训练/推理所需的高端服务器(TPU/GPU),其余投向数据中心与全球骨干网络扩建。公司将全年资本开支指引由此前的750亿美元上调至850亿美元,并预计2026年仍将维持高投入节奏

  国盛证券电子团队认为,随着GB200服务器下半年进入放量期,GB300出货也将接棒启动,谷歌、亚马逊与Meta等科技巨头加码推进自研ASIC芯片,以及OpenAI与xAI大量采购高效能算力,将带动服务器、主机板与高频高速PCB的需求直线攀升

  与此同时,PCB产业的技术工艺也在往高频高速化、轻薄化、无铅无卤化方向演进,铜箔、电子布,CoWoP工艺也成为了市场关注的“热词”。

  财联社VIP特联合蜂网火线直连“PCB”行业专家,调研当前行业的主要驱动因素,以及未来的技术发展方向。

  【交流纪要】

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  【核心逻辑】

  问题一:驱动当前PCB上行周期的主要市场力量是什么?

  专家:此轮上行周期的核心驱动力源于国际巨头对于AI硬件资本投入预期的进一步上修。

  目前PCB的需求来源主要分为两块。第一块由英伟达主导,其架构如开放式加速器模块(OAM)和通用基板(UBB),对PCB提出了极为苛刻的要求,通常需要采用高阶高密度互连(HDI)技术或超高层数的多层板。

  第二块是大型云服务商加速开发自研的定制化ASIC芯片,比如谷歌的TPU、亚马逊的Trainium和Meta的MTIA等项目,旨在针对自身特定的工作负载进行优化,以提升效率并降低对外部供应商的依赖。相较于英伟达平台,这些定制ASIC往往更侧重于具有特定材料和极高精度要求的超高层数多层板,而非最前沿的HDI结构。

  通过服务于GPU和ASIC两条并行的技术路线,PCB厂商们不仅能捕捉到双重的增长机遇,还能有效对冲单一客户技术路线变更带来的风险。这预示着,未来PCB行业的赢家将是那些能够与多个AI生态系统领导者建立深度研发合作、具备灵活高端制造能力的战略伙伴。

  问题二:CoWoP等先进封装如何改变PCB的基本角色?

  专家:CoWoP的核心理念是省去中间的IC载板,将带有芯片的晶圆级中介层直接集成到PCB上。这使得PCB不再仅仅是连接主板,而是升级为一种高精度的“内载板”或称之为“类载板”。

  CoWoP工艺对PCB的物理性能提出了极致要求。由于芯片直接贴装在PCB上,两者的热膨胀系数(CTE)必须高度匹配,以避免在高温工作和回流焊过程中因热应力不均导致板材翘曲、焊点开裂等致命问题。因此,采用Low-CTE特性的特种材料成为必然选择。

  目前,全球Low-CTE玻璃布的生产技术壁垒极高,产能高度集中于日本的日东纺。国内方面,中材科技是特种玻纤领域的龙头企业,已成功突破相关技术,成为全球少数几家能够供应Low-CTE玻璃布的厂商之一。

  问题三:CoWoP工艺对PCB上游设备有什么需求?

  专家:CoWoP对PCB制造精度要求较高,线宽/线距需要从目前主流的20/35微米,向10/10微米甚至更精细的级别迈进。传统PCB的减成法工艺难以满足SLP对线宽/线距的要求,因此业界主要采用改良半加成法mSAP工艺

  mSAP通过电镀方式“生长”出铜线路,而非传统减成法的蚀刻,从而能够制造出截面更接近矩形、尺寸更精密的导线,极大地提升了高频信号的完整性。然而,mSAP工艺高度依赖于具备更高分辨率的激光直接成像(LDI)和激光钻孔设备。芯基微装是LDI设备的领先企业,大族数控则是激光钻孔设备的龙头,SLP需求的增长将直接带动对其高端设备的需求。

  问题四:PCB铜箔在PCB工艺迭代方面有什么升级?

  专家:在高频电路中,电流会趋向于在导体的表面传输,这种现象被称为“趋肤效应”。因此,铜箔表面的粗糙度直接影响信号损耗——表面越粗糙,信号传输的实际路径就越长,能量损失越大。为了满足AI服务器等应用中112Gbps以上的高速信号传输需求,必须使用表面极其光滑的铜箔

  HVLP/RTF铜箔正是为此而生。通过先进的电解和表面处理工艺,HVLP铜箔的表面粗糙度(Rz)可以控制在1微米以下,从而最大限度地减少信号衰减,确保信号完整性。与特种玻璃布类似,顶级HVLP铜箔的供应也成为一大瓶颈。市场主要由日本三井金属和中国台湾金居等厂商把控,其产能不足已导致价格上涨和交付周期延长,这为中国大陆的铜箔企业如德福科技铜冠铜箔等提供了切入高端市场的机遇。

  问题五:在降低介电损耗的竞赛中,哪些先进树脂正在胜出?

  专家:树脂是构成CCL的基体材料,其分子结构决定了材料的介电性能。传统的环氧树脂(Epoxy)因其分子中含有极性基团,介电损耗较大,已无法满足高频高速应用的需求。因此,行业转向了性能更优越的先进树脂体系,主要包括聚苯醚(PPO/PPE)、聚四氟乙烯(PTFE)、碳氢化合物(CH)以及双马来酰亚胺三嗪(BMI)等。

  在这些先进树脂之间,PTFE拥有近乎完美的电气性能(极低的Dk和Df),但其材料本身柔软、不耐高温、加工极其困难,导致制造成本高昂、良率低下。而以PPO和CH为代表的M9级别材料,虽然电气性能略逊于PTFE,但其加工性能要好得多,能在性能和可制造性之间取得更好的平衡。

(文章来源:财联社)

(原标题:CoWoP未来有望逐步商用,一文详解PCB工艺及相关材料)

(责任编辑:70)

 
 
 
 

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