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历史新高!CPO概念股涨势凶猛!沪指再创十年新高

2025年10月27日 13:47
来源: 券商中国
编辑:东方财富网

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  CPO概念股,涨势凶猛!

  最近几个交易日,随着贸易紧张情绪的缓解,A股科技股持续上行,芯片、光刻机、CPO等方向领涨。今日(10月27日)盘中,上述板块再度拉升,CPO指数一度涨超4.70%,光刻机板块一度涨超5%。

  截至中午收盘,万得CPO指数涨幅仍超过4%。其中,新易盛生益科技中际旭创东田微源杰科技生益电子等相关概念股在盘中均创出历史新高。光刻机板块涨幅接近3%,万润股份涨停,晶瑞电材涨超15%。

  从整体A股市场来看,沪指震荡走强,再创十年新高,逼近4000点大关。沪深两市半日成交额1.57万亿,半日放量超3300亿。截至午间收盘,沪指涨1.04%,深成指涨1.26%,创业板指涨1.54%。午后开盘后,A股三大指数继续保持强势。

  CPO概念股集体大涨

  继上周五大涨5%后,CPO指数今日再度拉升,盘中最高涨幅一度达到4.71%。个股方面,东田微一度触及20%涨停,仕佳光子一度涨超15%,生益电子一度涨超13%,新易盛一度涨超10%,生益科技涨近10%,景旺电子华工科技东山精密天孚通信德明利工业富联等纷纷跟涨。

  当天盘中,近10只CPO概念股的股价创出历史新高,包括新易盛生益科技中际旭创东田微源杰科技生益电子德明利环旭电子等。

  消息面上,10月24日,中共中央举行新闻发布会,介绍和解读党的二十届四中全会精神。会上,科技部党组书记、部长阴和俊表示,中国政府高度重视人工智能,持续营造良好的创新生态,推动人工智能加快发展。

  阴和俊表示,下一步,将认真贯彻落实《中共中央关于制定国民经济和社会发展第十五个五年规划的建议》要求,持续加强“十五五”人工智能顶层设计和体系化部署。继续加强基础研究和关键核心技术攻关,聚力开发新的模型算法、高端算力芯片,不断夯实人工智能发展的技术根基。深入实施“人工智能+”行动,推动人工智能与科技创新、产业发展、消费提质、民生保障等深度融合。

  华安证券近日发布的研报指出,四中全会强调全面增强科技自主创新能力,可重点把握科技新一轮成长产业景气的投资机会。本轮产业周期以AI算力基建为代表,具体可关注泛TMT、算力(CPO/PCB/液冷/光纤)等。开源证券也表示,随着“十五五”规划建议提出科技自主可控成为重点工作目标,国产算力板块有望成为市场主线。同时持续看好AI浪潮下的存储周期和消费电子的创新周期。

  另外,全球算力高景气度延续。10月23日,Anthropic与谷歌正式宣布价值百亿美元的云服务合作协议,预计带来百万级谷歌定制TPU芯片,并在2026年带来预计1GW的AI算力。有分析称,这一事件凸显出全球AI算力需求正呈现指数级增长,开发和训练尖端AI系统的成本急剧飙升,也表明云服务提供商的自研芯片正成为英伟达之外不可忽视的力量。从全球AI算力产业链角度看,此次合作进一步强化了“多元算力供应”趋势。

  开源证券认为,上述合作有望提升Claude模型性能的同时,强化Anthropic和谷歌的合作关系,也凸显TPU芯片的性价比和泛用性。海外各AI模型厂商加强与上下游合作,AI军备竞赛持续,有望持续带动算力产业链需求。

  光刻机板块也大幅异动

  光刻机概念股今日盘中也大幅拉升,板块指数涨幅一度超过5%。截至中午收盘,万得光刻机指数涨幅仍接近3%。个股方面,万润股份涨停,晶瑞电材涨超15%,锦华新材涨近10%,佳先股份迦南科技涨超8%,南大光电富创精密等涨超6%,江化微涨幅也接近6%。

  消息面上,国家标准委网站显示,我国首个EUV光刻胶标准——《极紫外(EUV)光刻胶测试方法》作为拟立项标准,10月23日开始公示,截止时间为11月22日。标准的起草单位包括上海大学、张江国家实验室、上海华力集成电路制造有限公司、上海微电子装备(集团)股份有限公司。

  另据科技日报报道,近日,北京大学彭海琳教授团队及其合作者,通过冷冻电子断层扫描技术,首次在原位状态下解析了光刻胶分子在液相环境中的微观三维结构、界面分布与缠结行为,分辨率优于5纳米。这一发现不仅揭示了光刻胶分子在溶液中的微观物理化学行为,更指导开发出可显著减少光刻缺陷的产业化方案,有效清除了12英寸晶圆图案表面的光刻胶残留,为提升光刻精度与良率开辟新路径。

  彭海琳表示,光刻是芯片制造中关键的步骤之一,通俗理解,光刻就是给半导体晶圆(比如硅片)“印电路”,核心是用超精密“投影仪”把设计好的电路图案,缩小后印在硅片的特殊薄膜上,再通过冲洗定型。光刻是芯片制造的核心技术之一,更是微纳加工领域“皇冠上的明珠”。

  显影液则在电路图案形成过程中发挥着重要作用。在光刻胶显影过程中,光刻胶的曝光区域会选择性地溶解在显影液的液膜中。液膜中光刻胶分子的吸附与缠结行为,是影响晶圆表面图案缺陷形成的关键因素,进而可直接影响芯片性能和良率。

  有券商指出,光刻胶作为半导体、印制电路板、平板显示等行业的基础材料,其技术进步可以促进相关产业链的协同发展,上游材料供应商、设备制造商,中游光刻胶生产企业,以及下游光刻胶产品应用企业都能从中受益。

(文章来源:券商中国)

(原标题:历史新高!A股盘中,集体拉升!)

(责任编辑:10)

 
 
 
 

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